Toshiba, NEC y Sony desarrollan tecnología LSI

Las tres empresas acordaron desarrollar conjuntamente tecnologías de procesos LSI de sistemas para la generación de 45 nanómetros (nm).

Conforme evolucionan las aplicaciones en las áreas de consumo digital, móvil y comunicaciones, hay mayores requerimientos de tecnologías avanzadas de LSI de sistemas para lograr un desempeño y funcionalidad más alto, como procesamiento de datos de alta velocidad, menor consumo de energía y chips de menor tamaño. Esta miniaturización de tecnología de procesos para satisfacer estos requerimientos es cada vez más crítica y compleja.
Para cumplir con estos requerimientos para el desarrollo de tecnología de procesos LSI de sistemas líderes es necesaria una gran inversión de recursos de desarrollo. Muchas compañías productoras de semiconductores de todo el mundo están trabajando juntas para lograr un desarrollo más eficiente.
En febrero de 2004, Sony y Toshiba anunciaron su colaboración en el desarrollo de tecnología de procesos LSI de sistemas de 45 nm, y desde entonces han procedido con el desarrollo de tecnología en el Advanced Microelectronics Center de Toshiba en Yokohama, Japón. Los resultados de sus esfuerzos se han reportado y reconocido en simposios de la industria. De igual modo, NEC y Toshiba anunciaron un acuerdo para desarrollar conjuntamente la tecnología de procesos de 45 nm en noviembre de 2005, y han estado conversando para decidir los detalles de esa colaboración.
Como resultado del acuerdo, el equipo de desarrollo de 45 nm de NEC se unirá al actual trabajo de Sony y Toshiba en el desarrollo de tecnología de 45 nm en el Advanced Microelectronics Center. Al combinar los recursos de desarrollo de las tres compañías Toshiba, NEC Electronics y Sony se elevará la eficacia del desarrollo y se acelerará más el ritmo de desarrollo, con el objetivo de establecer rápidamente la tecnología de procesos LSI de sistemas.